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簡(jiǎn)要描述：羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs制備方法：水熱法成分：羥基化石墨烯量子點(diǎn)外觀：無色溶液發(fā)光峰：375納米粒度：6納米濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）溶液：水和乙二醇的混合物規(guī)格：100mlEmission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited
更新時(shí)間：2024-06-02產(chǎn)品型號(hào)：HG 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家訪 問 量：925詳細(xì)介紹
羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點(diǎn)
外觀：無色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml
Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)
TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots
Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots
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